流化床气相沉积设备（FB-CVD）

（一）设备简述

流化床反应器（FB-CVD）属于公司的拳头产品之一，粉体材料在反应器内形成流化态，进行包覆、烧结等工艺。以流化床为反应器的CVD工艺具有包覆均匀的特点。适用于D50=2~1000μm的粉体材料流化。

（二）FB-CVD的优势

1、流化床反应器的传热和传质系数高，比传统的固定床反应器和移动床反应器高1个数量级以上。

2、流化床反应器反应区温度均匀，所以对于强热效反应热扩散和热补充都有着明显的优势。

3、因反应区的温度控制均匀，相比于固定床反应器，流化床反应器在控温反应的温度精度一致性上有着不可替代的优势。

4、流化床反应器的单位产能大，因为能效和接触充分，单位床层的生产能力远远大于传统的固定床反应器和移动床反应器。

5、因为反应区质点均处于流动态，易于物料的加注和卸出，对于能耗和生产效率都有明显的提升。

6、设备采用自动化控制，更加接近于商业化设备，并明显提高性能稳定性。

7、设备采用一体化设计，满足防爆需求。

（三）主要技术参数

1、使用载气或反应气体种类：H2、O2、N2、Ar、CH4、C2H2等

2、固体原料种类：锂电池正负极材料、碳纳米管、催化剂、陶瓷材料、贵金属粉末、医药颗粒或者粉末、石墨、硅和金属氧化物等。

3、材料尺寸要求：≥0.5μm

4、批次处理量：具体需求根据客户要求进行定制。实验级3公斤，中试级20公斤，商业级250公斤。

5、操作温度：≤950℃

（四）设备型号：